activator150 sic和gan退火及石墨烯生长
centrotherm activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物（sic）或镓-氮化合物（gan） 设备的后植入烧结而设计开发。activator 150 可用于多种类型炉体， 如研发炉和批量生产炉， 且处理灵活性高。centrotherm 的无金属加热装置的独特设计允许处理温度高达 1850 °c 同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低，所以 activator 150 可实现生产具有成本效益。
 
特点：
高活化率
表面粗糙程度最小
温度*达 1850°c
批量规模高达 50硅片（150mm）
加热率*达 150 k/min
通过sih4可实现硅“过压
oxidator150-高温氧化炉
 
oxidator 150 高温炉由 centrotherm thermal solutions 设计开发，专门用于硅-碳化合物（sic）的氧化处理。设备*可承受 1400°c 的工艺温度，氧化工艺使用 o2、n2o、no、no2 或湿法氧化气体，灵活性和工艺质量极佳。
oxidator 150 装有非金属加热装置和双真空，是当前市场上最安全的毒性气体氧化炉。
 
技术参数： 
批量处理 2“、3“、100 mm 和 150 mm 硅片或任何其它组合
*加热率可达 7.5 k/min
批量规模高达 50片硅片（150 mm）
工艺压力：850 mbar 至常压下
 

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